真空鍍膜機是生產(chǎn)光學濾光片至關(guān)重要的一個生產(chǎn)設備，但是真空鍍膜機的一些參數(shù)變化會對濾光片有什么影響呢？深圳納宏光電帶您進一步了解。

真空鍍膜機內(nèi)真空度對濾光片性能的影響是由于剩余氣體與膜料原子、分子的氣相碰撞所致的能量損失及化學反應。如果真空鍍膜機內(nèi)真空度低，致使膜料蒸氣分子與剩余氣體分子碰撞幾率增加，蒸氣分子動能大大減小，使得蒸氣分子無法到達基片，或無力沖破基片上的氣體吸附層，或勉強能沖破氣體吸附層但與基片的吸附能卻很小，從而導致光學濾光片器件沉積的膜層疏松，聚積密度低，機械強度差，化學成分不純，使得濾光片的膜層折射率、硬度變差。

一般來說隨著鍍膜機內(nèi)真空度的提高，光學濾光片膜層的結(jié)構(gòu)進一步改善，膜層的化學成分變純，但應力增大。金屬膜和半導體膜的純度越高越好，它們對鍍膜機內(nèi)真空度的依賴性很大，從而需要更高的鍍膜機內(nèi)真空度受真空度影響的濾光片性能主要有：折射率散射機械強度和不溶性。