離子輔助沉積技術(shù)英文縮寫(xiě)為：IAD，是一種真空蒸發(fā)為基礎(chǔ)的輔助沉積方法。真空蒸發(fā)鍍膜過(guò)程中沉積的原子或者分子在基片表面的有限遷移率形成柱狀的薄膜結(jié)構(gòu)，所以在沉積的過(guò)程中對(duì)生長(zhǎng)的薄膜利用離子源轟擊，講離子的動(dòng)量傳給沉積的原子或分子，使沉積的分子或者原子的遷移率得到提高，從而抑制了柱狀結(jié)構(gòu)的生長(zhǎng)，使得光學(xué)介質(zhì)薄膜的密度增加，光學(xué)性能進(jìn)一步提高。

當(dāng)前，離子輔助沉積技術(shù)（IAD）已經(jīng)成為光學(xué)鍍膜常用的技術(shù)之一，深圳納宏光電采用的進(jìn)口光學(xué)鍍膜機(jī)，采用了更為先進(jìn)的離子輔助沉積技術(shù)，所以深圳納宏光電生產(chǎn)的濾光片，擁有光學(xué)膜層縝密性好，膜層牢固度高，耐鹽堿等惡劣環(huán)境使用等優(yōu)點(diǎn)。