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真空鍍膜和離子束混合濾光片鍍膜的優(yōu)點(diǎn)？

答：離子束輔助沉積可以在真空蒸鍍的同時(shí)用一定能量、種類、流強(qiáng)的離子束轟擊正在生長的表面而形成所需要的厚度和光學(xué)特性的薄膜。

主要的優(yōu)點(diǎn)有：



a.膜層和基底界面形成連續(xù)的混合，提高附著力。

b.鍍膜的密度與整塊材料的基本相同。

c.鍍膜的速率高

d.鍍膜的膜層縝密性好，孔洞減少，晶粒均勻細(xì)小，可提高抗腐蝕性能。

e.工藝參數(shù)易于控制

鍍膜機(jī)離子源圖片

2018-04-04